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多孔氮化硅TEM载网与传统铜网有什么不同？
2024年10月12日 11:09
来源：厦门超新芯科技有限公司
多孔氮化硅TEM载网以高纯单晶硅为基底，超薄氮化硅（10~50nm）为支撑膜。这种设计不仅确保了载网的高强度和稳定性，还使其具有优异的电子束穿透性和成像质量。
多孔氮化硅TEM载网与传统铜网相比，使用的超薄氮化硅膜不含碳元素，可有效避免积碳，尤其适合球差原子分辨表征。超薄氮化硅膜更耐酸耐高温，适用于酸性条件下制备样品，及1000摄氏度的高温环境。具有耐电子束辐照，电子束穿透率高，成像背景均匀和噪音小等优点。可以在不同分析仪器间转移分析，如TEM，AFM，XRD，EXAFS，Raman等。
在使用多孔氮化硅TEM载网时，需要确保样品能够牢固地吸附在载网上，以免在TEM测试过程中滑落或移动。这通常通过在载网上覆盖一层支持膜（如碳膜）来实现。
多孔氮化硅TEM载网广泛应用于各种纳米材料的TEM测试中，包括但不限于金属、半导体、陶瓷、高分子材料等。其优异的性能使得它成为TEM测试中常用的耗材之一。
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