半导体超纯水的作用：保障半导体制造质量的重要环节

一、半导体超纯水的作用

半导体超纯水指的是经过多级过滤、反渗透、电离交换等处理工艺得到的高纯度水。在半导体制造过程中，半导体超纯水的作用主要体现在以下几个方面：

1. 清洗：半导体超纯水能够有效清洗半导体产品表面的杂质和污染物，保证半导体产品的品质。

2. 冷却：半导体超纯水作为冷却介质，能够有效降低半导体产品的温度，减少热应力，提高半导体产品的稳定性。

3. 溶解：半导体超纯水能够溶解半导体生产过程中用到的各种化学试剂，保证化学反应的纯度和稳定性。

4. 传输：半导体超纯水能够传输半导体产品生产过程中需要的各类物质，如金属离子、有机物等

二、半导体超纯水在半导体制造领域中的重要性

半导体超纯水是半导体制造的重要环节之一，它直接关系到半导体产品的质量和稳定性。在半导体制造过程中，如果使用的水源不够纯净，就会导致半导体产品表面的杂质和污染物过多，从而影响半导体产品的品质和稳定性。此外，半导体超纯水还能够有效延长半导体产品的使用寿命，提高半导体产品的可靠性。

总之，半导体超纯水在半导体制造中起着至关重要的作用，它不仅能够保障半导体制造过程中的质量，还能够有效延长半导体产品的使用寿命。因此，半导体制造企业应该高度重视半导体超纯水的质量和使用，确保半导体产品的质量和稳定性。

清洗工序约占半导体制造工序的30%，采用“超纯水”（UPW），最大限度地去除杂质。

超纯水是通过最大限度地去除天然水中的杂质而得到净化的水。自来水中含有溶解的各种物质，包括钙、镁等矿物质以及氯等消毒剂。这些杂质会严重损害半导体制造等精密工艺中的产品质量。

因此，在半导体制造等要求高纯度的领域， 去除有机物、微粒、溶解气体等，使离子更接近氢离子（H+）和氢氧根离子（OH-）。被使用。

半导体制造涉及一系列复杂的工艺，需要极其先进的技术。超纯水是该制造过程的重要组成部分。

在半导体制造中，复杂的电路图案形成在称为硅晶片的薄板上。在此过程中，会进行各种处理，例如切割晶圆和注入杂质。在这些处理之后，几乎总是有一个清洁步骤。

该清洗过程使用超纯水。超纯水是最大限度去除杂质的极其纯净的水。超纯水之所以如此重要，是因为半导体电路极其微小，即使是最轻微的杂质也会对产品性能产生重大影响。

因此PFA取样瓶在半导体领域被广泛应用

PFA试剂瓶也叫特氟龙试剂瓶、取样瓶、样品瓶，它耐受强酸碱及高低温，主要用于痕量分析、同位素检测，半导体、ICP-MS/OES/AAS分析实验。

常用规格：30ml 60ml 100ml 250ml 500ml 1000ml 2000ml 3000ml 4000ml 5000ml等

PFA试剂瓶有广口和小口之分，广口适合盛放固体样品，小口适合盛放液体样品，不易挥发。

产品特性

1、外观半透明；

2、耐高底温：使用温度-200～+260℃；

3、耐腐蚀：耐强酸、强碱、王水、氢氟酸和各种有机溶剂；

4、防污染：金属元素杂质含量低于0.01ppb，满足ICP超高实验要求；

5、瓶口和瓶盖密封性好，无需瓶塞，液体不渗漏；可长期密封存储高纯试剂及标准样品；

广泛应用于半导体、新材料、多晶硅、太阳能光伏、电子材料、重金属检测等行业

可配套安捷伦、岛津、PE、赛默飞等品牌仪器使用