Atomax喷嘴：成为半导体精密清洗的理想选择

Atomax喷嘴：成为半导体精密清洗的理想选择

在半导体制造领域，清洗工艺是确保芯片性能和可靠性的关键环节。随着半导体技术的不断进步，芯片结构日益复杂，对清洗工艺的要求也越来越高。传统的清洗方法在面对微米级甚至纳米级污染物时，往往显得力不从心。此时，Atomax凭借其创新的技术和性能，成为半导体精密清洗的理想选择。

半导体清洗的挑战

半导体制造过程中，硅片表面会附着各种污染物，包括颗粒、金属离子、有机物等。这些污染物如果无法清除，将直接影响芯片的性能和良率。然而，传统的单流体喷嘴或普通双流体喷嘴在清洗效率、清洗精度和清洗时间上存在诸多局限：

• 清洗能力不足：难以去除0.1μm以下的微小颗粒和顽固污染物。

• 空间限制：半导体清洗设备内部结构复杂，安装空间有限。

• 时间成本高：清洗时间过长，影响生产效率。

Atomax：解决行业痛点的利器

Atomax是一款专为半导体行业设计的高性能双流体喷嘴，结合了创新的流体动力学技术和精密制造工艺，为半导体清洗提供了全新的解决方案。

1. 高效清洗，去除污染物

Atomax通过将高速气体与液体混合，产生极细的雾化颗粒，能够深入芯片表面的微观结构，有效去除0.1μm以下的颗粒、金属离子、有机物等顽固污染物。其喷射模式确保清洗均匀，不留死角。

2. 紧凑设计，适应复杂空间

Atomax采用模块化设计，体积小巧，能够轻松集成到现有的半导体清洗设备中，即使是在空间有限的复杂环境中也能灵活安装。

3. 缩短清洗时间，提升生产效率

Atomax的高效清洗能力显著缩短了清洗时间，同时减少了纯水和化学药剂的使用量，帮助企业降低运营成本，提高生产效率。

4. 高可靠性与长寿命

Atomax采用高耐腐蚀材料制造，能够适应各种化学清洗剂，确保在严苛的半导体生产环境中长期稳定运行，减少维护频率和停机时间。

Atomax的应用场景

• 精细雾化效果：半导体制造对清洗和喷涂的精度要求高，ATOMAX 二流体喷嘴能够产生极其细小且均匀的液滴，其雾化粒径可精确控制在极小范围内。例如在一些先进的半导体芯片制造中，能将清洗液雾化成几微米的液滴，这些微小液滴可以深入到芯片表面的微小缝隙和孔洞中，有效去除微小颗粒和污染物，同时不会对芯片表面造成损伤。

• 精准流量和压力控制：该喷嘴具备精确的流量和压力调节功能，可以根据不同的半导体工艺需求，精准控制气液的流量、压力和混合比例。比如在光刻胶喷涂过程中，通过精确控制流量和压力，能够确保光刻胶均匀地覆盖在晶圆表面，保证光刻工艺的精度和稳定性。

• 高可靠性和稳定性：半导体制造过程是一个高度连续和自动化的过程，任何设备故障都可能导致生产中断和产品损失。ATOMAX 二流体喷嘴采用了高品质的材料和先进的制造工艺，具有良好的抗堵塞性能和耐用性，能够在长时间连续运行中保持稳定的喷雾性能，减少因喷嘴故障而导致的生产停机时间。

具体应用场景

• 晶圆清洗

• 去除颗粒污染物：在晶圆制造过程中，会不可避免地沾染各种颗粒污染物，如灰尘、金属颗粒等。ATOMAX 二流体喷嘴将去离子水等清洗液雾化后喷射到晶圆表面，利用液滴的冲击力和清洗液的化学作用，能够有效去除这些颗粒污染物，保证晶圆表面的清洁度。

• 去除有机物残留：光刻、蚀刻等工艺会在晶圆表面留下有机物残留，二流体喷嘴可以将专门的有机溶剂雾化后进行清洗，通过精细的喷雾覆盖和高效的清洗作用，去除这些有机物残留，为后续的工艺步骤做好准备。

• 光刻胶喷涂

• 均匀涂层形成：光刻胶的均匀喷涂对于半导体光刻工艺至关重要。ATOMAX 二流体喷嘴能够将光刻胶均匀地雾化并喷涂在晶圆表面，形成厚度均匀、平整度高的光刻胶涂层，确保光刻图案的精确转移，提高芯片制造的良品率。

• 芯片封装清洗

• 封装基板清洗：在芯片封装过程中，封装基板表面可能会存在灰尘、油脂等污染物，影响封装的可靠性。二流体喷嘴可以对封装基板进行精确清洗，去除这些污染物，保证芯片与封装基板之间的良好连接和电气性能。

结语

在半导体制造领域，清洗工艺的质量直接决定了芯片的性能和良率。Atomax凭借其高效、精准、可靠的清洗能力，成为半导体企业的理想选择。无论是提升产品质量，还是优化生产效率，Atomax都能为您提供强有力的支持。

选择Atomax，选择清洗解决方案，助力您的半导体制造迈向更高水平！