photoresist-正性光刻胶板,光刻制版
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    产地
  • 上海上海市

    所在地区
  • 2024-08-29 09:38

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产品详细

正性光刻胶板是正色调光致抗蚀剂positive tone photoresist,在玻璃衬底上镀膜,形成均匀的光胶层,正性光刻胶板类似于Shipley S1800系列光致抗蚀剂,可产生**的结构。
正性光刻胶板非常适合3D全息光刻制版应用.
正性光刻胶板PHOTO-R光刻胶板是涂有光致抗蚀剂的玻璃板。 不使用旋涂,因此这些光刻胶板在整个板表面上具有均匀的光致抗蚀剂层厚度。
正性光刻胶板可记录深度3D图像全息图,它产生比Spipley光致抗蚀剂**的结果 .
正性光刻胶板的光致抗蚀剂是一种正聚合物质 - 即在暴露于短波长的光之后它变得可溶于某种溶剂。
正性光刻胶板光致抗蚀剂层涂层通常为1-1.5μm厚,适合连续CW和脉冲激光照射,对于连续CW的440nm脉冲激光照射曝光的灵敏度约为〜1.5mJ/cm 2,对于440nm脉冲激光照射曝光的灵敏度约为〜12-15mJ / cm 2,在以1:9稀释在去离子水中的AZ303显影剂中曝光30秒后进行处理。
正性光刻胶板订购规格
尺寸200x250mm,每包10片
尺寸250x300mm,每包4片
正性光刻胶板规格参数
曝光灵敏度: 30mJ/cm2
分辨率:
1500l/mm
光胶厚度: ˜2µm
衬底玻璃板厚度: 2-3mm
保存湿度:<50%
存储温度: 25°C±1°C.



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