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EBARA荏原真空泵介绍

2026年05月15日 16:51 来源:玉崎半导体(深圳)有限公司
EBARA(荏原制作所)是日本百年真空设备品牌,全球半导体真空设备龙头,主打干式无油真空泵,适配半导体、光伏、化工、精密制造等高洁净、耐腐蚀、高真空工况,是刻蚀、CVD、MOCVD、SiC 碳化硅工艺的主流配套泵源。

一、品牌核心优势

  1. 无油干式结构:无油污染,真空洁净度高,满足半导体 SEMI‑S2、CE、NRTL 行业标准

  2. 耐腐蚀能力强:标配 / 可选 Ni‑Resist 耐蚀材质,适配 HCl、HI、氟化物、氯气等强腐蚀气体,适配碳化硅 SiC、化合物半导体工艺

  3. 节能稳定:专属转子设计 + 怠速休眠模式,同级别节能 30%+,50/60Hz 频率下抽气性能一致

  4. 低振动低噪音:无接触式转子,振动小、噪音低,适配精密实验室、产线

  5. 全系列覆盖:从小型风冷泵到大型水冷螺杆泵,抽速 50~80000L/min 全覆盖

二、主流产品系列(干式真空泵,核心型号)

1. EV‑SA 系列(小型风冷罗茨干泵,轻制程优选)

  • 代表型号:EV‑SA20

  • 特点:风冷无需水冷、无接触免维护、高水汽耐受、超小型、低能耗、内置智能控制器

  • 抽速:200~2000L/min

  • 应用:Load‑Lock、PVD、SEM、分析仪器(LC‑MS/GC‑MS)、实验室、小型半导体设备

2. ESR 系列(紧凑型节能干泵,耐腐蚀)

  • 代表型号:ESR20N、ESR30N、ESR500W

  • 特点:小型占地、低功耗、可选耐蚀材质、适配轻负载~中腐蚀工艺

  • 抽速:500~5000L/min

  • 应用:Load‑Lock、离子注入、轻腐蚀刻蚀、半导体辅助真空、科研设备

3. EV‑X 系列(中高模块化干泵,新一代主力)

  • 特点:宽温域控制、模块化设计、长维护周期、抗腐蚀、适配多工艺通用、TCoO 使用成本低

  • 应用:半导体刻蚀、CVD、灰化、离子注入、外延工艺、SiC 碳化硅产线

4. EV‑M 系列(罗茨干式泵,中大型半导体主力)

  • 代表型号:EV‑M20N、M102N、M202N、M302N、M502N

  • 抽速:1800~50000L/min

  • 特点:极限真空≤5Pa,强耐氟 / 氯腐蚀,水冷稳定

  • 应用:刻蚀、CVD、薄膜沉积、半导体核心制程

5. ESA 系列(大流量螺杆干泵,大型腔体 / 光伏 / MOCVD)

  • 代表型号:ESA15‑D、ESA25‑D、ESA70W、ESA300W、ESA700W

  • 抽速:1400~80000L/min

  • 特点:大抽速、快速抽空、适配氢气 / 轻气体、有机溶剂排气、低振动

  • 应用:MOCVD、大型 Load‑Lock、LCD 溅射、光伏、真空干燥、外延设备

三、核心技术与材质

  1. 转子类型:罗茨式(中小抽速)、螺杆式(大抽速),无接触无磨损

  2. 耐蚀材质:Ni‑Resist 镍基耐蚀铸铁、特殊涂层,适配氯化氢、碘化氢、碘蒸气等 SiC / 第三代半导体强腐蚀气体

  3. 冷却方式:风冷(小型)、水冷(中大型)

  4. 极限真空:0.5~5Pa,满足半导体超高洁净真空要求

四、主要应用行业 & 工艺

  1. 半导体(核心):刻蚀、CVD/PVD、离子注入、外延、退火、Load‑Lock、SiC 碳化硅、化合物半导体

  2. 新能源光伏:MOCVD、薄膜沉积、真空镀膜

  3. 化工精密制造:腐蚀性气体抽取、真空干燥、溶剂回收

  4. 科研 / 分析:电子显微镜、质谱仪、真空镀膜、空间模拟

五、对比优势(对标莱宝、爱德华)

  • 荏原:日系稳定、耐腐蚀性更强、适配 SiC / 腐蚀工艺更优、维护周期更长

  • 爱德华 / 莱宝:欧美主流,通用性强,但腐蚀工况荏原适配性更好


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