半导体晶圆供气如何拦截微颗粒？应特格 Wafergard GT-Plus、GTL 气体过滤器

在半导体晶圆制造工艺里，供气洁净度是影响产品良率的关键因素。气源管路中的超细颗粒，一旦跟随气流接触晶圆表面，会造成晶圆划伤、电路缺陷，直接导致产品报废。

惰性气体、洁净干燥空气（CDA）广泛用于晶圆吹扫、晶圆传输工位，这类工艺用气，必须在终端用气点做好颗粒拦截，POU 使用点过滤就是非常重要的防护手段。

产品核心优势

Entegris 应特格 Wafergard GT-Plus、GTL 在线气体过滤器，专门针对惰性气体终端颗粒过滤开发。滤膜选用疏水 PTFE 氟聚合物，对＞0.0015μm 的颗粒去除效率高达 99.9999999%，可以捕捉气流内亚微米级微小污染物，从末端守住气体洁净防线。

两款规格选型区分

• Wafergard GT-Plus推荐流量：30 slpm壳体材质：PFA接口形式：1/8"、1/4" 卡套密封适合中小流量供气支路

• Wafergard GTL推荐流量：80 slpm壳体材质：聚砜接口形式：Rc 1/4（PT 1/4 内牙）、1/4" NPT 内螺纹适合大流量 CDA、惰性气体管路

基础工况参数

最大工作压力：0.41MPa最高工作温度：50℃体积小巧紧凑，可直接集成在机台气路末端，无需大幅改造管路，是高性价比的终端过滤方案。

典型应用场景

✔ 晶圆传输系统供气过滤 

✔ CDA 洁净干燥空气过滤 

✔ 氮气等惰性气体使用点净化 

✔ 半导体设备机台支路末端 POU 过滤

总结

对于半导体产线来说，在靠近工艺端的位置加装气体过滤器，比上游集中过滤更能避免管路二次污染。应特格 Wafergard GT-Plus / GTL 系列，兼顾过滤精度、流量适配性与安装便利性，稳定减少颗粒污染，守护晶圆制程良率。

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